1.光学系

1.1全般的な説明

1.1.1背景補正と火炎放射機能を有する2ビームシステム

＊1.1.2非対称変調技術はサンプルビームと参照ビームの通過時間比を2：1とし、ノイズを低減する

1.1.3石英被覆を有する全反射鏡面システム

1.1.4全閉鎖光学系、防塵、防蒸気



1.2モノクロメータ

1.2.1全体設計：Ebert-Fastie設計、焦点距離333 mm

*1.2.2波長範囲175 ~ 900 nm

*1.2.3格子：1800線/mm刻み密度、二重輝き波長、1.6逆数分散係数

1.2.4波長選択：自動波長選択と自動ピーク探索

1.2.5スリット調整

*1.2.5.1連続調整、スペクトル帯域幅範囲0.1-2 nm、調整ステップ長0.1 nm

＊1.2.5.2黒鉛炉を操作し、減少したスリット高さはすべてのスリット幅に適用する

1.2.5.3スリットの幅と高さの自動設定

1.2.6波長スキャン：自動スキャン機能付き



1.3検出器：広範囲光電子増倍管



2.元素ランプ

2.1中空陰極ランプ

*2.1.1 8ランプソケット、自動選灯機能付き

2.1.2光束を高めるために2つの平面上で自動的に最適化する

2.1.3自動多元素操作、次のランプ自動予熱機能付き

2.1.4使用可能な標準中空陰極ランプ



2.2スーパーライト：オプション。



3.背景補正

＊3.1超パルス背景補正技術を用いて、毎秒200回（50 Hz）或いは240回（60 Hz）の示度周波数で背景ピークを補正する

＊3.2パルス間と挿入測定の間には約1 msの時間間隔しかないので、最高の可能な測定精度を保証することができる

3.3高精度重水素ランプは175 ~ 425 nmの補正範囲を提供し、2.5 Absまで補正できる



4.火炎制御

4.1全般的な説明

4.1.1保存された方法条件から火炎タイプとガス流量を自動的に設定する

4.1.2プログラム可能な点火と消火の順序

4.1.3自動多元素操作時、自動的に火炎状態を変更する

4.1.4プログラマブル設定解析が完了したら自動的に火を消す

4.2安全連鎖装置

4.2.1空気、アセチレンとN 2 Oガスの圧力、燃焼ヘッドが存在するかどうか、燃焼ヘッドのタイプ、液封レベル、霧化器及び圧力ドレインが存在するかどうか、酸化ガス流量、火炎状態と主電源

4.2.2いかなる異常が発生しても、火を点けたり消したりすることができない

4.2.3画面に安全連鎖の状態を表示する



5.火炎原子化システム

5.1燃焼ヘッド

5.1.1全チタン燃焼ヘッド設計

5.1.2燃焼ヘッドの長さ：10 cm

*5.1.3燃焼ヘッドの位置はソフトウェアにより自動調整可能

*5.1.4燃焼ヘッド回転機能のオプション



5.2アトマイザ

5.2.1不活性固体ポリマー混合チャンバを有する予備混合及び設計

5.2.2アトマイザはPt-Ir合金毛細管と不活性ベンチュリ管を採用して、酸衝撃に抵抗する能力を高める

5.2.3ロック機構を用いて調整可能なサンプルリフトレートを実現する

5.2.4不活性衝突球

5.2.5安全なインターロック装置を備えた霧化器用アンカー及び圧力排出用アンカー

5.2.6液面水平インターロック機能付き統合型液封



5.3黒鉛炉の迅速な解体

*5.3.1火炎分析と黒鉛炉分析を切り替えるための黒鉛炉の迅速な着脱機能を持つ



6.保証性能指標

*6.1感度と精度：5 mg/LのCu溶液を用いて、同じ測定において、同時に>0.8 absの感度とRSD<0.45%の精度を得た

*6.2典型検出限界：Cuの検出限界0.001 ppm



7.黒鉛炉システム

7.1背景控除方式：重水素ランプボタンの背景

*7.2黒鉛管加熱方式：縦方向加熱

7.3黒鉛炉アセンブリ

7.3.1黒鉛管とプラットフォーム、石英窓付き密閉空間内に設置し、ガス路、冷却水管と電線付きのコードを通じて給電電源に永久に接続する

7.3.2 2ウェイ不活性保護ガスを有する

7.3.3温度範囲：室温~ 3000℃

7.3.4コンピュータ制御の最高昇温速度：2000℃/s

*7.3.5ステップ数制限なしの温度プログラミング。ステップごとに昇温と保温、ガス選択と示度オプションを含む

*7.3.6温度制御器は電流と電圧を監視し、全温度範囲内、昇温と保温段階で、エネルギーフィードバックを用いて正確な制御を提供する

7.3.7不活性ガス圧力と冷却水圧力に対して、安全なインターロック装置を有する

7.3.8冷却水の温度変化の修正

7.3.9不活性ガス：ArまたはN 2、圧力70-200 kPa（10-30 psi）

7.3.10冷却水：流量1-2 L/mim、圧力100-200 kPa（15-30 psi）



7.4自動サンプラ

*7.4.1 40個の試料と10個の予混合標準試料（または10個までの標準試料のための1個の自動混合溶媒）を収容することができる

7.4.2試料容積：2 ml（標準試料と試料用）、5 ml（自動混合標準試料用）、10 ml（空白溶液と化学改良剤用）

7.4.3注入量：1-100μl、1μlの増分でプログラミング設定する

7.4.4全PTFE材質の毛細管

7.4.5 1リットル洗浄液タンク

7.4.6記憶された座標値に基づいて、コンピュータ制御プローブの位置により設定する

7.4.7プログラムオプション：標準自動混合、標準添加自動混合、化学調整剤自動注射、多様品注射、自動再標定と完全再校正、サンプル検証と添加回収



8.水素化物発生器

8.1全般的な説明

8.1.1連続流動式水素化物と冷蒸気発生システム、ppbレベルのAs、Sb、Se、Te、Bi、Ge、Sn＆Pbの分析に用いる

8.1.2冷蒸気法によるppbレベルのHg分析に同時に使用できる

*8.1.3原子吸収サプライヤーの元工場で製造され、原子吸収操作ソフトウェアにより制御される



8.2分析性能

*8.2.1サンプル収率：60時間/時間

*8.2.2 ppbレベル、精度RSD<1%



9.ソフトウェア

9.1全般的な説明

9.1.1 Windows 7ベースのソフトウェアプラットフォーム

9.1.2英語または中国語のバージョンを選択できる

9.1.3同じブランドのすべての機器とすべての付属品を制御できる



9.2データ処理システム

9.2.1原子吸収または放出の分析結果を提供する

9.2.2吸収の範囲は3.0 Absまで

9.2.3測定方式：積分、測定平均値、ピーク高またはピーク面積

*9.2.4最大50回の繰り返し読取りの平均値とRSD

9.2.5最大10種類の標本の補正曲線

9.2.6線形最小二乗曲線補正

9.2.7線形最小二乗法曲線のゼロクロス補正

9.2.8正確な適合曲線補正

9.2.9多項式曲線補正

9.2.10標準加入または内標準

9.2.11サンプリングの積算時間またはサンプリングの積算個数に基づいて、いつ単一のサンプリングを行って傾きを再計算するか、または完全な再較正を行うかをプログラム制御することができる

9.2.12暗号保護の分析結果、不要な標本またはサンプルの読み取りを除去することができる

9.2.13重量または希釈剤補正

9.2.14すべての編集者は過程中と事後を分析して行うことができる



9.3グラフィックス表示

9.3.1高分解カラー表示：原子吸収信号、背景信号、黒鉛炉温度プログラム、補正曲線、ピーク測定及び波長走査

9.3.2重複非連続ピークを含む複数のグラフィックス表示モード

9.3.3オプションの追跡吸収スケール

9.3.4グラフィックスカーソルを使用してグラフィックストラッキングからデジタル化情報を取得することができる

9.3.5ウィンドウ拡大機能により、グラフィックストラックを拡張表示することができる



9.4デジタルストレージ

9.4.1図形の軌跡と分析結果をリンクすることを含むすべてのデータを保存することができる

9.4.2保存することもできる：分析方法、サンプルラベル、サンプル順序、方法順序、重量と希釈剤、分析報告ヘッダーとフッター、校正と分析結果



9.5レポート生成

9.5.1レポートは、単一要素の分析結果であれ、異なるテストと異なる技術を組み合わせた複数要素の分析結果リストであれ、すべての記憶された分析結果から印刷することができる

9.5.2すべての運行パラメータ、校正図形、ヘッダーフッター、方法説明、サンプルラベル、結果統計と重量と希釈因子を印刷することができる

9.5.3ソフトウェアは複数のプリンタの種類をサポートする



9.6品質管理プロトコル

9.6.1サンプルの検査、追加回収、品質制御の上下限、校正修正を含むすべての品質制御機能が使用可能